本標準與GB/T 176-1996、GB/T 19140-2003相比主要變化如下：
——增加了X射線熒光分析玻璃熔片的制備中試樣的稱量。
——增加了校準方程的建立和確認。
——允許差改為重復性限和再現(xiàn)性限。

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